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穩(wěn)態(tài)/瞬態(tài)熒光光譜系統(tǒng)TPL300成像模塊功能：熒光強(qiáng)度/壽命/光譜成像、載流子遷移成像、光電流成像。

飛秒熒光,飛秒時(shí)間分辨太赫茲光譜,時(shí)間分辨熒光光譜,超快時(shí)間分辨太赫茲光譜系統(tǒng)THZ100自動(dòng)化系統(tǒng)：全自動(dòng)光路切換、自動(dòng)化光路校準(zhǔn)；充氮樣品倉(cāng)：支持溶液、薄膜、粉末樣品。

超快陰影泵浦探測(cè),飛秒陰影泵浦探測(cè),超快泵浦探測(cè)陰影成像系統(tǒng)UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來(lái)進(jìn)行測(cè)試。首先激光打在樣品上，樣品表面會(huì)產(chǎn)生一定程度的損毀，由于本過(guò)程很快（p...

MICRO LED晶圓級(jí)綜合檢測(cè)系統(tǒng)明場(chǎng)/PL檢測(cè)類(lèi)型：明場(chǎng)缺陷分析、電極缺陷分析、PL缺陷分析。

鈣鈦礦太陽(yáng)能電池綜合性檢測(cè)分析系統(tǒng)檢測(cè)時(shí)間＜10 min（10cm*10cm） 空間分辨率20 μm/100μm。

碳化硅成像檢測(cè),SiC晶圓質(zhì)量成像檢測(cè)系統(tǒng)：晶圓襯底質(zhì)量（載流子壽命）高速成像，快速篩查外延片晶格質(zhì)量。

碳化硅襯底檢測(cè),碳化硅成像檢測(cè),碳化硅襯底位錯(cuò)缺陷光學(xué)無(wú)損檢測(cè)系統(tǒng)：最高檢測(cè)速度：＜17min/片（6“）；BPD、TSD、TED分類(lèi)識(shí)別。

科研級(jí)鈣鈦礦材料-器件綜合光譜表征系統(tǒng)介紹： 高精度PL/EL強(qiáng)度、發(fā)射光譜,時(shí)間分辨PL,PLQE,QFLS,贗J-V氣 高分辨光電流/光電壓成像 激光/樣品掃描可選 兼容高壓、低溫等模塊 ...

科研級(jí)寬禁帶半導(dǎo)體綜合表征系統(tǒng)介紹：TPL300-UV同時(shí)具備時(shí)間分辨、光譜分辨和空間分率功能。系統(tǒng)使用科研級(jí)正置顯微鏡和高精度XY位移臺(tái)，整體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單,可以實(shí)現(xiàn)熒光壽命采集、熒光發(fā)射譜采集...

電激發(fā)納秒瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)采用電控延遲系統(tǒng)和獨(dú)立超連續(xù)白光光源，用于檢測(cè)樣品在亞納秒到毫秒尺度的光/電誘導(dǎo)動(dòng)力學(xué)演化過(guò)程。